LCP-25 Experimentell Ellipsometer
Aféierung
De manuellen elliptesche Polimeter benotzt d'Ausstiermungsmethod fir d'Dicke an de Briechungsindex vum Film ze moossen, a manuell den Ofwäichung an den Ofwäichungswénkel vum Testprozess reguléieren. Ellipsometrie gëtt wäit an der Messung vum dielektreschen Dënnfilm op massivem Substrat benotzt. An der Method fir d'Dicke vum Film ze moossen, kann et zu der dënnster an héchster Präzisioun gemooss ginn.
Spezifikatioune
| Beschreiwung | Spezifikatioune |
| Déck Mooss Range | 1 nm ~ 300 nm |
| Range of Incident Angle | 30º ~ 90º, Feeler ≤ 0,1º |
| Polariséierter & Analyséierer Kräizungswénkel | 0º ~ 180º |
| Disk Wénkel Skala | 2º pro Skala |
| Min. Liesung vu Vernier | 0,05º |
| Optesch Zentrum Héicht | 152 mm |
| Aarbecht Bühnen Duerchmiesser | Φ 50 mm |
| Allgemeng Dimensiounen | 730x230x290 mm |
| Gewiicht | Ongeféier 20 kg |
Deel Lëscht
| Beschreiwung | Zuel |
| Ellipsometer Eenheet | 1 |
| Hien-Ne Laser | 1 |
| Photoelektresche Verstärker | 1 |
| Photo Zell | 1 |
| Silikafilm op Silicon Substrat | 1 |
| Analyse Software CD | 1 |
| Instruktiounshandbuch | 1 |
Schreift Äre Message hei a schéckt en un eis
